Nell’ambito delle Giornate della Moda Italiana nel Mondo, promosse dal Ministero degli Affari Esteri e della Cooperazione Internazionale, il Consolato Generale d’Italia a Ginevra, la Camera di Commercio Italiana per la Svizzera (CCIS) e l’Italian Women’s Group Switzerland (IWG Switzerland) hanno presentato la nuova edizione di Italian Creativity on the Runway, svoltasi venerdì 5 dicembre presso l’atelier Maserati CAR AVENUE Geneva, partner storico dell’iniziativa.
L’evento, ormai appuntamento consolidato nel panorama culturale internazionale di Ginevra, celebra la creatività italiana attraverso una serata dedicata a moda, design, innovazione, formazione, inclusione e impegno sociale.
L’edizione 2025 ha visto una selezione curata di brand provenienti da numerose regioni italiane, accanto a marchi svizzeri con produzione in Italia, evidenziando così il ruolo centrale del Made in Italy nei rapporti economici e culturali fra i due Paesi.
Grazie al sostegno di “Italia è Moda” – il programma MAECI dedicato alla valorizzazione internazionale della moda italiana – la serata è stata arricchita da cortometraggi istituzionali dedicati alla storia e all’evoluzione del settore moda, installazioni immersive in Realtà Virtuale, materiali editoriali e contenuti visivi dedicati alle nuove prospettive del Made in Italy.
All’evento ha preso parte anche l’Accademia del Lusso, portando in passerella in passerella due collezioni realizzate dalle sue studentesse. Nella stessa prospettiva educativa, gli studenti dell’Institut International de Lancy (IIL) hanno partecipato nuovamente come volontari nell’ambito del loro programma IB CAS (Creativity, Activity, Service). La sinergia tra istituzioni come l’Accademia del Lusso e scuole internazionali quali l’IIL contribuisce alla creazione di un ecosistema in cui creatività, formazione e cittadinanza attiva si sostengono reciprocamente.
L’edizione 2025 ha rinnovato inoltre il sostegno a Helpcode Switzerland, organizzazione impegnata in progetti educativi e di empowerment per bambini e famiglie.